美国SVGL公司开发出第一代步进扫描投影曝光机,集成电路图形线宽从μm缩小到μm节点。
一九九零年代,n一九九五年,Cano着手300mm晶圆曝光机,推出EX3L和5L步进机,ASML推出FPA2500,193nm波长步进扫描曝光机。光学光刻分辨率到达70nm的“极限”。
光刻技术与我们的生活息息相关,我们用的手机,电脑等各种各样的电子产品,里面的芯片制作离不开光刻技术。
如今的世界是一个信息社会,各种各样的信息流在世界流动。而光刻技术是保证制造承载信息的载体,在社会上拥有不可替代的作用。
二零零零年以来,在光学光刻技术努力突破分辨率“极限”的同时,NGL正在研究,包括极紫外线光刻技术,电子束光刻技术,X射线光刻技术,纳米压印技术等。
与此同时,河兰光刻机巨头阿斯慢,占据了63%的市场份额,产品集中在中高端的极紫外光刻EUV和深紫外光刻DUV上。
然而在二零零四年前,尼糠是当之无愧的带头大哥,不仅让阿斯慢稳坐屌丝之位,甚至让花旗国这个光刻机技术鼻祖,逐步退出了半导体用光刻机的市场。
彼时傲娇的尼糠,一直将光刻机作为自己的核心产品,也是让岛国企业引以为傲的“民族之光”,甚至当年能到尼糠从事光刻机的研发,一度成为众多岛国大好青年的愿景。
再看阿斯慢的基础并不好。从一九八四年诞生后的二十年,阿斯慢就一直是一个谜一样的存在,没有什么人会觉得。阿斯慢能够有什么未来,甚至包括他们自己。
早期的阿斯慢,生存无望只能四处认干爹,最终只有飞利甫动了恻隐之心,在总部大厦旁边垃圾桶旁的空地上,给阿斯慢弄了几个简易厂房,房地产工地上的那种。
最骚的是,飞利浦也没打算给什么钱,阿斯慢除了要饭没干过,基本上上门推销、蹲点、抢单。
反正你能想象到的销售手段,阿斯慢全部都用过,能活二十年,全靠日积月累出来的“销售手艺”。
魔幻的是,这点“手艺”居然成为了日后阿斯慢登顶的关键。
苦苦支撑了二十年,阿斯慢终于等待了他们第一个贵人,——台急电鬼才宁本坚,一个可以比肩章忠谋的人物。
如果说章忠谋缔造了台急电的前二十年,宁本坚就为台急电的后二十年,挣下了巨大的家当。
宁本坚一九四二年出生于越南,华夏宝岛人,祖籍岭南潮汕。
宁本坚一九七零年获得美国俄亥俄州立大学电机工程博士学位,二零零八年当选美国国家工程学院院士。在加入台积电之前,林本坚在IBM从事成像技术的研发长达二十二年,是当时世界无二的顶级微影专家。
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